Láminas delgadas de SiNx:H y SiOx depositadas mediante la técnica ECR-CVD para su aplicación en estructuras MIS
| Main Author: | |
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| Corporate Author: | |
| Format: | Libros Digitales |
| Language: | Spanish |
| Published: |
Madrid :
Universidad Complutense de Madrid,
1996.
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| Subjects: | |
| Online Access: | https://elibro.net/ereader/elibrounam/87940 |
| Item Description: | Universidad Complutense de Madrid. Facultad de Ciencias Físicas. Departamento de Física Aplicada III (Electricidad y Electrónica). |
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| Physical Description: | 343 p. |