Láminas delgadas de SiNx:H y SiOx depositadas mediante la técnica ECR-CVD para su aplicación en estructuras MIS

Bibliographic Details
Main Author: García Sánchez, Silvia
Corporate Author: e-libro, Corp
Format: Libros Digitales
Language:Spanish
Published: Madrid : Universidad Complutense de Madrid, 1996.
Subjects:
Online Access:https://elibro.net/ereader/elibrounam/87940

MARC

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100 1 |a García Sánchez, Silvia. 
245 1 0 |a Láminas delgadas de SiNx:H y SiOx depositadas mediante la técnica ECR-CVD para su aplicación en estructuras MIS  |h [recurso electronico] /  |c Silvia García Sánchez ; director Germán González Díaz, Ignacio Martil de la Plaza. 
260 |a Madrid :  |b Universidad Complutense de Madrid,  |c 1996. 
300 |a 343 p. 
500 |a Universidad Complutense de Madrid. Facultad de Ciencias Físicas. Departamento de Física Aplicada III (Electricidad y Electrónica). 
533 |a Recurso electrónico. Santa Fe, Arg.: e-libro, 2015. Disponible vía World Wide Web. El acceso puede estar limitado para las bibliotecas afiliadas a e-libro. 
650 0 |a Ciencias físicas. 
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653 |a Ciencias fisicas 
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655 4 |a Libros electrónicos. 
700 1 |a González Díaz, Germán,   |e dir. 
700 1 |a Martil de la Plaza, Ignacio,   |e dir. 
710 2 |a e-libro, Corp. 
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